Статті КПАтаЗХТ УДХТУ

Permanent URI for this collectionhttps://crust.ust.edu.ua/handle/123456789/20511

ENG: Articles

Browse

Now showing 1 - 2 of 2

Electrochemical Discharge of Nickel With Low Internal Stresses
(Oles Honchar Dnipro National University, Dnipro, 2025) Sknar, Yuri; Sknar, Irina V.; Butyrina, Tetiana E.
ENG: The work is devoted to the current topic of electrochemical separation of nickel with low voltages from sulfate electrolytes of electroextraction. Scrap processing of strategic nickel-containing superalloys with electroextraction of nickel is an urgent task today. Electrochemically deposited nickel is characterized by high internal tensile stresses, which leads to its delamination from the cathode surface. To reduce the internal stresses of nickel deposits obtained in such systems, it is proposed to use sulfur-containing organic compounds of sodium allylsulfonate, sodium orthoarylsulfonate, and sodium propynylsulfonate. It was established that allylsulfonate and orthoarylsulfonate practically do not affect the kinetics of nickel release. Propynyl sulfonate with a concentration of more than 5 mmol/l significantly inhibits the process of electrodeposition of nickel, which is related to the adsorption capacity of this compound with the triple bond present in the molecule. It is shown that due to the presence of a sulfo group in the composition of the molecules, the used organic additives contribute to the reduction of the internal stresses of nickel deposits. It was established that allyl sulfonate and orthoaryl sulfonate are the most promising reagents that contribute to reducing the internal stresses of electrodeposited nickel. Lowstress nickel deposits can be obtained in the range of current densities from 2 to 7 A/dm2 at a concentration of these additives from 15 to 30 mmol/l.
Синтез композитних фотокаталітичних плівок Cu-TIO2
(Вісник Херсонського національного технічного університету, 2025) Скнар, Юрій Євгенович; Скнар, Ірина Володимирівна; Аміруллоєв, Р. С.; Бутиріна, Тетяна Євгенівна; Кожура Д. О.
UKR: Електроосадження композиційних покривів на основі міді розглядається як перспективний напрям створення сучасних поліфункціональних матеріалів. Однією з ключових сфер їх використання є системи очищення газових викидів і стічних вод. Органічні забруднювачі, характерні для текстильної, харчової та лакофарбової промис-ловості, ефективно піддаються фотодеструкції за участю каталізаторів. Найчастіше в ролі фотокаталіза-торів застосовують напівпровідникові оксидні матеріали, зокрема діоксид титану. Найбільш перспективною сферою застосування композитів, що містять TiO2, є фотокаталітична деструкція забруднюючих речовин. Титан діоксид добре відомий як напівпровідник n-типу з відносно високою швидкістю рекомбінації фотоінду-кованих носіїв заряду. Властивості титан діоксиду є функцією кристалічної структури, розміру і морфології наночастинок. Особливості конструкції обладнання для очищення стоків вимагають закріплення частинок TiO2у жорсткій матриці. Оптимальним рішенням є нанесення композитних плівок методом електроосадження, наприклад, Cu–TiO2. Вирішальну роль у формуванні властивостей композитів і виборі технологічних параметрів процесу відіграє склад розчину. Для одержання композитів Cu–TiO2 в роботі використано метансульфонатний розчин, який характеризується високою розчинністю солей і електрохімічною індиферентністю. З’ясовано, що фотокаталітичні властивості композиційних плівок Cu–TiO2, одержаних із метансульфонатного розчину, зале-жать від кількості включеного в плівки діоксиду титану. Показано, що зростання вмісту TiO2 в плівках з 0,1 до 1,3 мас.% супроводжується підвищенням ефективності фотодеструкції барвника з 6 до 15,5 %. Запропо-нований склад розчину демонструє високу ефективність для синтезу композиційних плівок фотокаталізаторів, призначених для очищення стічних вод від органічних забруднень