NeuraL Network Modeling of Plasma-Chemical Processes of Obtaining Nanosystems

Loading...
Thumbnail Image

Date

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Publisher

Український державний університет науки і технологій, ІВК «Системні технології», Дніпро

Abstract

ENG: Plasma-chemical technology is a new area of industrial chemical technology. Chemical processes in low-temperature plasma, the regularities of reactions, and the basis of plasma-chemical technology will require computer simulation. Building adequate simulation models of plasma-chemical processes for developing nanosystems and computer simulations with them allows the development of applied research studies in this subject area. Computer intelligence technologies provide an opportunity to use non-classical approaches to building mathematical models of chemical processes. Neural network technologies make it possible to create mathematical simulation models of various processes.


UKR: Плазмохімічна технологія є новим напрямком промислової хімічної технології. Хімічні процеси в низькотемпературній плазмі, закономірності реакцій та основи плазмохімічної технології потребуватимуть комп'ютерного моделювання. Побудова адекватних імітаційних моделей плазмохімічних процесів для розробки наносистем та комп’ютерне моделювання з ними дозволяє розвивати прикладні дослідження в цій предметній галузі. Технології комп’ютерного інтелекту дають можливість використовувати некласичні підходи до побудови математичних моделей хімічних процесів. Технології нейронних мереж дають змогу створювати математичні імітаційні моделі різноманітних процесів.

Description

Citation

Makarchenko М., Korotka L., Skiba M. NeuraL Network Modeling of Plasma-Chemical Processes of Obtaining Nanosystems. Information Тechnologies in Metallurgy and Machine Engineering – ITMM 2023 : Materials of the Scientific and Technical International Conf. (Dnipro, March 22, 2023). Dnipro, 2023. P. 99–101. DOI: https://doi.org/10.34185/1991-7848.itmm.2023.01.024.

Endorsement

Review

Supplemented By

Referenced By